Deweloper i utrwalacz do klisz rentgenowskich HUATEC Industrial D5 i D7
Nazwa produktu i specyfikacja modelu
| Model |
Specyfikacja |
|
D4,D4-D,H4,LA400,D5,D5-D,
D7,D7-D,H7,H7-D
|
356mm×432mm(14in.×17in.),305mm×381mm(12in.×15in.),260mm×360mm (10in. ×14in.),70mm×300mm,80mm×150mm,80mm×240mm,80mm×300mm,80mm×360mm, 100mm×356mm,195mm×275mm,70mm×200m,80mm×100m,80mm×200m |
Inne specyfikacje i pojemność opakowania mogą być również dostarczone zgodnie z wymaganiami klienta.
Cechy i zastosowania
Przemysłowa klisza rentgenowska to rodzaj kliszy o wysokiej rozdzielczości i wysokiej jakości obrazu, szeroko stosowana w nieniszczących badaniach defektoskopowych. Klisza charakteryzuje się wysoką czułością, wysokim kontrastem, wysoką rozdzielczością,
Może być stosowana bezpośrednio lub z ekranem wzmacniającym ołowiowym do ekspozycji na promieniowanie X lub γ. Nadaje się do komponentów elektronicznych, materiałów syntetycznych, odlewów i odlewów, spawania itp.
Badania NDT w przemyśle stoczniowym, obronnym i nuklearnym, przemyśle lotniczym i kosmicznym itp. Zastosowanie niebieskiej poliestrowej podkładki, dwustronnie pokrytej warstwą emulsji, warstwą i
Warstwą ochronną. Ta klisza ma bogate warstwy, wysoką rozdzielczość obrazu i dobrą definicję. Klisza może być przetwarzana w temperaturze pokojowej, a także w maszynie wysokotemperaturowej.
Cechy i zastosowania
 |
GB/T19348.1 |
EN 584.1 |
ASTME 1815-08 |
ISO 11699-1 |
| D4,D4-D,H4 |
C3 |
C3 |
Ⅰ |
C3 |
| D5,D5-D |
C4 |
C4 |
Ⅰ |
C4 |
| D7,LA400,D7-D,H7,H7-D |
C5 |
C5 |
Ⅱ |
C5 |
Wydajność produktu
| Nazwa wskaźnika |
jednostka |
D4,D4-D |
H4 |
LA400 |
D5,D5-D |
D7,D7-D,H7,H7-D |
| Gęstość zamglenia |
-- |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.12 |
| Współczynnik kontrastu “r” |
-- |
≥4.0 |
≥3.0 |
≥3.2 |
≥4.0 |
≥3.5 |
| ISO “S” |
-- |
≥1.5 |
≥1.0 |
≥0.6 |
≥1.5 |
≥2.0 |
| Czas rozpuszczania w alkalii |
Minuty |
≥10 |
| Odporność na zarysowania podczas przetwarzania |
N |
≥0.8 |
Bezpieczne oświetlenie i przetwarzanie w płukanie
Bezpieczne światło robocze w ciemni tej kliszy to karmazynowe światło bezpieczeństwa z żarówką 15W. Gdy klisza jest używana do rozpieczętowania, odległość lampy wynosi zazwyczaj powyżej 1,2 metra. Skumulowany czas oświetlenia
Nie więcej niż 40 minut. Naświetlone próbki powinny być przepłukane w ciągu 2 godzin. Proces płukania pokazano w poniższej tabeli.
| Sposób płukania |
Inne kraje |
Temperatura / ℃ |
Czas wywoływania /min |
Czas utrwalania /min |
Suszenie / ℃ |
transport
ml/m2 |
| Ręczny |
D-19b |
20±0.5 |
5±1 |
10 |
Suszenie naturalne |
300 |
| Płukanie maszynowe |
G-30 |
29±1 |
1.5～2 |
2 |
45～55 |
Główna krzywa robocza kliszy
Nazwa produktu i specyfikacja modelu
| Model |
Specyfikacja |
|
D4,D4-D,H4,LA400,D5,D5-D,
D7,D7-D,H7,H7-D
|
356mm×432mm(14in.×17in.),305mm×381mm(12in.×15in.),260mm×360mm (10in. ×14in.),70mm×300mm,80mm×150mm,80mm×240mm,80mm×300mm,80mm×360mm, 100mm×356mm,195mm×275mm,70mm×200m,80mm×100m,80mm×200m |
Inne specyfikacje i pojemność opakowania mogą być również dostarczone zgodnie z wymaganiami klienta.
Cechy i zastosowania
Przemysłowa klisza rentgenowska to rodzaj kliszy o wysokiej rozdzielczości i wysokiej jakości obrazu, szeroko stosowana w nieniszczących badaniach defektoskopowych. Klisza charakteryzuje się wysoką czułością, wysokim kontrastem, wysoką rozdzielczością,
Może być stosowana bezpośrednio lub z ekranem wzmacniającym ołowiowym do ekspozycji na promieniowanie X lub γ. Nadaje się do komponentów elektronicznych, materiałów syntetycznych, odlewów i odlewów, spawania itp.
Badania NDT w przemyśle stoczniowym, obronnym i nuklearnym, przemyśle lotniczym i kosmicznym itp. Zastosowanie niebieskiej poliestrowej podkładki, dwustronnie pokrytej warstwą emulsji, warstwą i
Warstwą ochronną. Ta klisza ma bogate warstwy, wysoką rozdzielczość obrazu i dobrą definicję. Klisza może być przetwarzana w temperaturze pokojowej, a także w maszynie wysokotemperaturowej.
Cechy i zastosowania
| |
GB/T19348.1 |
EN 584.1 |
ASTME 1815-08 |
ISO 11699-1 |
| D4,D4-D,H4 |
C3 |
C3 |
Ⅰ |
C3 |
| D5,D5-D |
C4 |
C4 |
Ⅰ |
C4 |
| D7,LA400,D7-D,H7,H7-D |
C5 |
C5 |
Ⅱ |
C5 |
Wydajność produktu
| Nazwa wskaźnika |
jednostka |
D4,D4-D |
H4 |
LA400 |
D5,D5-D |
D7,D7-D,H7,H7-D |
| Gęstość zamglenia |
-- |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.10 |
≤0.12 |
| Współczynnik kontrastu “r” |
-- |
≥4.0 |
≥3.0 |
≥3.2 |
≥4.0 |
≥3.5 |
| ISO “S” |
-- |
≥1.5 |
≥1.0 |
≥0.6 |
≥1.5 |
≥2.0 |
| Czas rozpuszczania w alkalii |
Minuty |
≥10 |
| Odporność na zarysowania podczas przetwarzania |
N |
≥0.8 |
Bezpieczne oświetlenie i przetwarzanie w płukanie
Bezpieczne światło robocze w ciemni tej kliszy to karmazynowe światło bezpieczeństwa z żarówką 15W. Gdy klisza jest używana do rozpieczętowania, odległość lampy wynosi zazwyczaj powyżej 1,2 metra. Skumulowany czas oświetlenia
Nie więcej niż 40 minut. Naświetlone próbki powinny być przepłukane w ciągu 2 godzin. Proces płukania pokazano w poniższej tabeli.
| Sposób płukania |
Inne kraje |
Temperatura / ℃ |
Czas wywoływania /min |
Czas utrwalania /min |
Suszenie / ℃ |
transport
ml/m2 |
| Ręczny |
D-19b |
20±0.5 |
5±1 |
10 |
Suszenie naturalne |
300 |
| Płukanie maszynowe |
G-30 |
29±1 |
1.5～2 |
2 |
45～55 |
Główna krzywa robocza kliszy
Krzywa robocza kliszy D7 dla aluminium Krzywa robocza kliszy D7 dla stali
Twoja wiadomość musi mieć od 20 do 3000 znaków!
Polish
